俄罗斯与白俄罗斯的联合研发团队成功制造出一台试验性的光刻机，能够支持130纳米工艺芯片的生产。此消息由俄罗斯第一副总理丹尼斯·曼图罗夫在“微电子”大会上正式宣布。这一成就紧随其后，俄罗斯此前已推出350纳米的光刻机设备，而130纳米的样机仅在数月内问世，显示出其在半导体设备领域的显著进展。光刻工艺是在半导体材料表面刻画精细图案，从而实现芯片制造的核心步骤。130纳米属于成熟的工艺节点，广泛应用于功率器件、传感器、汽车电子以及工业控制等领域，但不及当今的尖端逻辑芯片所需的几纳米节点。

根据俄罗斯工业贸易部部长安东·阿利哈诺夫的表述，这台130纳米光刻机的研发已经接近尾声，国内生产的准分子激光器也已经完成了测试。目前，这类光源除了在俄罗斯生产外，美国和日本亦有相关技术。接下来的整机验收测试将于今年秋季启动，预计在年底前完成。工贸部副部长瓦西里·什帕克在接受采访时提到，部分验收环节已经开始，同时也在进行工艺调试。物理样机将在今年准备就绪，并将在年内完成工作交付；从明年开始，企业可以签订合同并进行生产和供货。

据iXBT报道，130纳米光刻机是由泽列诺格勒纳米技术中心与白俄罗斯“平面”公司联合研发的，试验样机预计在2026年8月公布，相关研发费用约为57亿卢布，计划在2027年开始量产供货。在28日的全体会议上，工贸部机床和重型机械司司长瓦列里·皮文透露，过去两年已完成了超过100项微电子相关的研发任务，今年还计划完成超过100项，其中也包括130纳米光刻机的相关项目。此外，工贸部在年内还启动了10项新的研发项目，主要涉及设备领域，技术标准和客户要求逐年收紧。

曼图罗夫指出，自主研发的准分子激光器是130纳米光刻机的重要组成部分。光刻机用以将电路图案投影到晶圆上，而光源决定了其能够实现的线宽精度。阿利哈诺夫进一步强调，准分子激光器是这些设备的辐射源，俄罗斯相关激光器的验证已完成。

350纳米光刻机的产业化进程已经开始，供应合同已签署，正在生产中，预计首批两台设备将交付给国内企业。根据报道，首台量产型350纳米光刻机定于2026年12月交付给客户，首批用户为隶属于俄罗斯国家技术集团的“施瓦贝”控股的“马佩尔”，第二台则为“元件”集团旗下的公司。该设备由泽列诺格勒纳米技术中心与“平面”公司共同研发，曝光视场为22×22毫米，能够处理直径为200毫米的晶圆，用固态激光器替代了传统的汞灯。每小时在150毫米晶圆上的产能约为63片，而在200毫米晶圆上的产能则约为43片。基础配置报价为3.92亿卢布（不含增值税），加上五年质保和延长维保的配置总价为5.61亿卢布。相似类型的进口设备价格一般高出40%到60%。客户需预付一半货款，生产周期约为18个月。

根据什帕克提供的市场数据，目前全球约51%的微电子产品仍使用350纳米及以上工艺，而28纳米以下的仅占约16%；预计到2035年，这一比例也仅能增至约17%。他指出，350纳米及以上的技术主要应用于功率电子、MEMS和传感器等成熟领域，仍是市场的主体。同时，阿利哈诺夫提到，关于90纳米分辨率的扫描式光刻机的研发任务书已经制定，目前正在寻找相关承担单位。

此外，俄罗斯还在推动电子束光刻技术的进展，这项技术用于制造芯片生产所需的光罩。目前，泽列诺格勒的一座科技中心正在进入光罩生产的收尾阶段，曼图罗夫也表示该项目将分阶段掌握更先进的工艺节点，逐步达到28纳米。与此同时，材料和化学品的研究也在推进，过去三年间，俄罗斯已掌握约60种关键材料的生产，预计到2029年还将推出同数目的新产品。